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              LEF300 鐳射系列干膜光阻劑

                LEF300 鐳射系列干膜光阻劑

              LEF300 鐳射系列干膜光阻劑是一種高性能、全水溶性的干膜光阻劑,應用于內外層線路制作,特別適用于365mm波長、405nm波長或365nm 和 405nm激光直接成像系統。在酸性蝕刻以及電鍍工藝中有出色的性能。

              特色及優點

              高解析度 -1-2 mil 線寬/線距

              曝光速度快

              附著力好

              抗化學性好

              性能穩定

              項目
              單位
              LEF312
              LEF315
              備注
              厚度
              μm
              30
              38

              感度*1
              mj/cm2
              9
              12

              最短顯影時間
              sec.
              20
              22

              附著力*1*2(L/S=X/250)
              μm
              25
              30

              解析度*1*2(L/S=X/X)
              μm
              25
              30

              蓋孔孔徑
              μm
              //
              6.0

              *1:LEF315(SST=7/21):采用Stouffer21格曝光尺,推薦硬化格數的中心值的曝光能量,海圣平行光曝光機制作(UVE-HSP5K-11

              *2:1wt%Na2CO3,30℃,最短顯影時間x2

              *3:3mils SEM圖像。



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