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              MAH200 圖形電鍍系列干膜光阻劑

                MAH200 圖形電鍍系列干膜光阻劑

              MAH200 圖形電鍍系列干膜光阻劑是一種高性能、全水溶性的干膜光阻劑,特別適用于外層電鍍的應用。特別針對高可能一次合格率而設計,在蓋孔&蝕刻和酸性電鍍工藝中有出色的性能。

              特色及優點

              極好的貼合度-高良率

              蓋孔能力優異

              顯影后邊墻垂直/電鍍后邊墻垂直

              顯影泡沫少

              高解析度、高附著力

              應用于酸性鍍銅和鎳金工藝時無滲鍍現象

              化學物質滲漏少

              堿性褪膜性能好-膜屑顆粒小

              堿性褪膜速度快

              項目
              單位
              MAH220
              MAH215
              備注
              厚度
              μm
              50
              38

              感度*1
              mj/cm2
              40
              30

              最短顯影時間
              sec.
              32
              25

              附著力*1*2(L/S=X/250)
              μm
              30
              25

              解析度*1*2(L/S=X/X)
              μm
              30
              25

              蓋孔孔徑
              μm
              7.5
              6.5

              *1:MAH215(SST=7/21):采用Stouffer21格曝光尺,推薦硬化格數的中心值的曝光能量,海圣平行光曝光機制作(UVE-HSP5K-11

              *2:1wt%Na2CO3,30℃,最短顯影時間x2

              *3:分辨率、解析度以及顯影后圖像。



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